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最新消息| TOFWERK半導體無塵室內高效AMC多點監控實例 | 2024-01-03 |
| 文章来源：由「百度新聞」平台非商業用途取用"http://www.baidu.com/link?url=1-rj2G7hTEPKuthijRJ_kmMsnBMif1MEwoTR9vDgH5bLav_rpbU0mvxdUiDLjgRD28LpruJYpE-MNugrAyqwEl-QweXrXCV-NQ3S3MWtqlS" AMC多點采樣系統nnnnn在納米級別先進制程為主的的半導體制造流程中，保持設備內部、晶圓傳輸以及無塵室內部無污染對良率至關重要。舉例來說，半導體制1廠（fab）的所有區域都需要對潛在AMC污染物濃度進行管控，包含無塵室內部和布置有多層濾膜和原料氣體管路的天花板空間，以及多種輔助設備和真空泵所在的底層空間。nn多通路閥門系統，也被稱為多點采樣系統，是空氣分子污染物（AMC）監測能力建設的一個必不可缺的硬件模塊。結合配套采樣管路和采樣泵，該系統中核心分析設備輪流測量來自于不同點源的氣體樣品，確保制造工藝在最佳環境條件下進行，防止設備和晶圓在制程中以及不同制程間等待過程中受到污染，從而影響到最終的產品良率。nnAMC監測的重要性隨著制程工藝的日益精進越來越高。痕量AMC污染就已經可能對晶圓上最終電路質量和性能有重大負面影響，同時也可能會影響到工藝設備的長期穩定性和重復性。可想而知，對高端制造過程中使用的氣體和化學品在無塵室空氣中的濃度進行精確測量和控制是至關重要的，而這正是多點采樣和監控系統的適用之地。nn多點采樣系統大大提高了采樣效率，使得同一臺分析儀器能夠測量多個點位，覆蓋盡可能大的無塵室面積。我們必須注意的是，每個點位的測量頻率跟點位的數目是成反比的。換句話說，點位越多，每個點位在單位時間被測量到的次數會相應減少。這就需要業主在充分考量無塵室測量需求的情況下，合理設置采樣點位和點位數目。另外一個可能性就是盡可能優化每個點位所需要的測量時長。nnnnn圖1. TOFWERK ClearFab AMC檢測儀搭配多點采樣系統的示意圖.nn圖 2. 12路采樣點位的順序監測結果 (左插圖)，以及點位和點位之間的快速響應和可忽略不計的殘余效應 (右插圖).nnTOFWERK的多點采樣閥門系統與AMC分析儀相得益彰，不僅僅提供了超快閥門切換和采樣速度（毫秒級），同時采用了最多達六種不同的化學電離方法，提供了最大范圍的AMC覆蓋范圍，將每個點位精確穩定測量時長壓縮在在幾秒鐘內。TOFWERK的多點采樣閥門和切換系統完全適配與TOFWERK AMC監測儀器。采樣點的總數量可以通過在六個基礎端口上添加跟多模塊來定制，如圖1所示。超快的儀器響應和閥門切換使每個點位的采樣時間短至10秒，更重要的是，點位和點位之間沒有殘余效應（圖2）1 。nn圖 3. 上圖: 在某點位上PGMEA的濃度 關鍵字標籤：無塵室防塵口罩 |
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